产品详情

特点：
1、本工艺是一种最普遍、最可靠地产生微孔铬的方法，微孔铬的孔隙率为20,000-100,000个/cm2；
2、采用特殊载体和光亮剂，镀层光亮柔软，不易倒光，且工艺稳定，维护调整方便；
3、溶液分散性能好，适用于复杂零件电镀；
4、用于OMF系列后道工艺，无需增设中间清洗工序；
5、可以降低镍层总厚度来满足抗蚀性要求，因此能节约用镍、降低成本；
6、与OMF系列半光亮镍、高硫镍、光亮镍组合，可构成国际公认的装饰铬中具有最佳抗蚀性能的“四层镍”结构，在CASS试验中具有传统的铜/镍/铬工艺无可比拟的优越性。
使用方法：
用量
镍封辅光剂BNF-A 10ml/L
镍封主光剂BNF-B 1ml/L
镍封微粒BNF-110 5g/L
镍封微粒BNF-220 1g/L 
镀镍润湿剂W-1或W-3 0.5-1.0ml/L
建议补充量
BNF-A　　 　100-150ml/1000A·H
BNF-B　　　 100-150ml/1000A·H
BNF-110、BNF-220 根据分析添加

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